반도체 산업은 전 세계적으로 4차 산업혁명의 핵심 기술로 자리 잡으며 급격한 성장을 이루고 있습니다. AI, IoT, 5G 등의 첨단 기술 발전은 반도체 수요를 폭발적으로 증가시키고 있으며, 기술의 미세화와 고도화가 필수적으로 요구되고 있습니다. 특히, EUV(극자외선) 공정과 같은 첨단 기술은 반도체 제조 공정에서 중요한 요소로 부상하고 있습니다. 이러한 글로벌 흐름 속에서 삼성전자는 EUV 공정을 중심으로 한 미세 공정 기술을 선도적으로 도입하여 7나노 이하의 초미세 공정에서의 경쟁력을 강화하고 있습니다. 또한, 대규모 투자를 통해 생산 능력 확충과 기술 혁신을 지속하며, 차세대 메모리와 비메모리 반도체 분야에서도 연구개발을 적극 추진하고 있습니다.

저는 대학에서 반도체 공정 관련 과목을 이수하며 기초 이론을 체계적으로 학습하였고, 반도체 제조 공정을 직접 체험할 수 있는 연구 프로젝트에 참여하여 포토리소그래피, 증착, 에칭 등의 공정을 실제로 다루어 보았습니다. 특히 공정 변수의 최적화를 통해 효율성을 향상시키는 과제를 수행하며 문제 해결 능력을 배양했습니다. 이러한 경험을 통해 반도체 공정의 복잡성과 중요성을 깊이 이해하게 되었으며, 현장에서의 실질적인 적용 능력을 키웠습니다.

삼성전자에 입사한 후, 저는 회사의 첨단 공정 기술을 활용하여 새로운 공정 개선 방안을 모색하고, 지속적인 연구개발을 통해 반도체 제조 혁신에 기여하고자 합니다. 특히, 미세 공정 기술의 고도화를 통해 삼성전자가 글로벌 반도체 시장에서 기술적 우위를 더욱 공고히 할 수 있도록 노력하겠습니다. 이를 통해 반도체 산업의 발전뿐만 아니라 삼성전자의 지속 가능한 성장에도 일조하고 싶습니다.